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真空吸盘
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真空吸盘
真空吸盘
真空吸盘
主要特点

  • 高导热性、低膨胀系数 
  • 良好的平面度
  • 高刚度,更优异的耐磨性
  • 轻量化设计
  • 高纯度,无金属离子污染
  • 可根据用户需求进行结构定制

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主要应用

光刻设备

半导体量检测设备,如膜厚测量,OCD 测量,形貌测量,缺陷检测等

性能简介

吸盘采用轻量化设计,并采用和硅材料热膨胀系数相近材料:无压烧结碳化硅,渗硅碳化硅,氮化硅和氮化铝等。吸盘具备高刚度,高导热,低热膨胀,稳定性高等特点,另外,还具备高纯度,晶粒大小均匀等特性,如此可有效的减少Particle以及化学清洗的污染问题,延长使用寿命。

技术参数
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单位

数据

平面度

μm

0.5

适用规格

 

6/8' 12' 8/12'

表面特征

 

销式,环式

Pin高度

mm

0.05-0.2

Pin直径(最小)

mm

φ0.2

Pin间距(最小)

mm

3

密环宽度(最小)

mm

0.7

表面粗糙度

μm

Ra 0.02

厚度公差

mm

±0.01

直径公差

mm

±0.01

平行度公差

μm

≤3

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